工作原理：

　　是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E(電場(chǎng))×B(磁場(chǎng))所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。

　　多功能磁控濺射儀主要特點(diǎn)

　　1、此系統(tǒng)包含大多數(shù)的真空薄膜鍍層技術(shù):熱蒸發(fā)(boatevaporationorcrucible)，電子束蒸發(fā)，濺射沉積。

　　2、這樣我們?cè)谝慌_(tái)設(shè)備上可以靈活運(yùn)用多種膜生長(zhǎng)技術(shù),針對(duì)各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。

　　3、腔體的開放式設(shè)計(jì),使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個(gè)樣品并同時(shí)鍍膜。

　　4、此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個(gè)300mm寬的快速通道門,可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對(duì)于薄膜制備研究機(jī)構(gòu),面對(duì)多種材料增加或改變沉積方式,轉(zhuǎn)換起來非常方便,并沒有任何空間限制。

　　5、此系統(tǒng)為模塊式設(shè)計(jì),可以針對(duì)用戶的具體應(yīng)用來訂制設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)。