一、光刻機(jī)(lithography)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
 

　　二、組成步驟：利用模版去除晶圓表面的保護(hù)膜、將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路、
 

　　用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)、模版和晶圓大小一樣，模版不動(dòng)、模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機(jī)聚焦部分移動(dòng)。
 

　　三、曝光機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機(jī)價(jià)格昂貴，通常在3千萬至5億美元。
 

　　四、投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，光刻機(jī)號(hào)稱精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國(guó))，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的光刻機(jī))和日本Canon三品牌為主。
 

　　五、工件臺(tái)為光刻機(jī)的一個(gè)關(guān)鍵，由掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)臺(tái)(XY)、掩模樣片相對(duì)運(yùn)動(dòng)臺(tái)(XY)、轉(zhuǎn)動(dòng)臺(tái)、樣片調(diào)平機(jī)構(gòu)、樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu)、承片臺(tái)、掩模夾、抽拉掩模臺(tái)組成。樣片調(diào)焦機(jī)構(gòu)由調(diào)焦手輪、杠桿機(jī)構(gòu)和上升直線導(dǎo)軌等組成，調(diào)平上升過程初步調(diào)焦，調(diào)平完成鎖緊球氣浮后，樣片和掩模之間會(huì)產(chǎn)生一定的間隙，因此必須進(jìn)行微調(diào)焦。另一方面，調(diào)平完成進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)，必須分離一定的對(duì)準(zhǔn)間隙，也需要進(jìn)行微調(diào)焦。