激光直寫技術的研究與進展
更新時間：2023-03-06 點擊次數(shù)：1437
激光直寫技術是一種無需掩模、適用面廣、性價比高的微納米加工手段，目前已經(jīng)廣泛應用于微機電系統(tǒng)、掩模板、微流控、微納光學器件、超材料等微納米制造領域。隨著納米技術的飛速發(fā)展，器件和結構變得越來越小，面對的場景也越來越復雜多樣。
為了滿足這些新的發(fā)展需求，新一代激光直寫系統(tǒng)采用了激光與物質(zhì)非線性相互作用的新原理，在技術上實現(xiàn)了兩個突破：
1、突破了衍射極限的限制，實現(xiàn)了超衍射加工；
2、打破了受體材料僅能使用有機光刻膠的限制，實現(xiàn)了在各種材料也包括有機光刻膠上的激光直寫。
這些突破賦予了激光直寫技術許多新的內(nèi)涵，極大地拓寬了激光直寫的應用場景。
大量的實驗研究已經(jīng)證明了激光直寫系統(tǒng)的可靠性，同時證明了此系統(tǒng)可利用多樣化的加工反應機理，如氧化、切削、凝固、熔化、光化學反應、引導自組裝等。
事實上，千萬種材料，每一種都可以和新一代激光直寫結合，寫出自己的故事，加之不同的相互作用原理，為使用激光直寫探索前沿提供了許多新的可能和一個巨大的舞臺。
工欲善其事，必先利其器，新一代激光加工系統(tǒng)已經(jīng)開始服務于多個領域的研究機構并參與到其前沿研究課題中，為研究人員在探索新的微納米效應，尋找獨特的制造技術、構建新型納米器件等領域提供了獨特、靈活的制造加工技術手段。
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