磁控濺射鍍膜由真空鍍膜系統(tǒng)和真空手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。

　　蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高性能、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備，用于制備各種金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜、磁控膜、光學(xué)膜、超導(dǎo)膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜。

　　磁控濺射鍍膜用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備，可廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備，同時(shí)設(shè)備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質(zhì)量和牢固度。系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（2個(gè)靶）、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。

　　設(shè)備配有陽(yáng)極層離子源，可對(duì)樣品進(jìn)行清洗，同時(shí)，可在鍍膜時(shí)，對(duì)樣品進(jìn)行輔助沉積，用于反應(yīng)氣體進(jìn)氣和氬氣氣路，具有混氣功能；腔內(nèi)氣壓可測(cè)可調(diào)可控。濺射室烘烤照明采用紅外加熱除氣方式，真空室內(nèi)有襯板，避免濺射材料直接濺射到濺射室真空壁上。設(shè)備具有斷水?dāng)嚯娺B鎖保護(hù)功能，有防止誤操作保護(hù)功能，系統(tǒng)采用手動(dòng)控制膜制備過(guò)程可控制靶擋板、樣品轉(zhuǎn)動(dòng)、樣品控溫等。