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激光直寫無掩膜光刻機紫外光直寫曝光 ，無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費用，靈活性高，可直接通過電腦設(shè)計光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計要求隨意調(diào)整，可升級開放性系統(tǒng)設(shè)計，按照客戶要求自由配置，使用維護簡單, 設(shè)備耗材價格低，應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。

spin coater勻膠機既在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。

mask aligner半自動光刻機該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

勻膠機，旋涂儀其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。

HOLOPRINT 納米壓印，使用戶能夠?qū)嶒灪蜏y試許多壓印技術(shù);光固化樹脂和加工參數(shù)，如壓力、速度和光照強度。這些檢查對于在大規(guī)模生產(chǎn)之前進行擴展非常有用 - 在內(nèi)部構(gòu)建原型的能力將節(jié)省時間和資源。HoloPrint® uniA6 DT還允許中開發(fā)壓印模板。

MDA-20SA光刻機產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比。

PL SERIES納米壓印，提供了一個帶有微定位裝置的機械平臺，用于安裝納米壓印室、UV固化源和校準(zhǔn)顯微鏡。它既可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準(zhǔn)器，同時為您的整個壓印過程提供可編程的自動控制。

MDA-80FA全自動光刻機，操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標(biāo)記搜索功能。