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快速退火爐，采用革新的加熱技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)真正的基底溫度測(cè)量，不需要采用傳統(tǒng)快速 退火爐的溫度補(bǔ)償，溫度控制精確，溫度重復(fù)性高，客戶包括國(guó)際上許多半導(dǎo)體公司及科研團(tuán)隊(duì)，是半導(dǎo)體制程退火工藝的理想選擇。

超高真空多腔室物理氣相沉系統(tǒng)由全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備商制造,配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.。

超高真空磁控濺射系統(tǒng)，襯底支架符合最大300mm直徑的晶片需求，并可對(duì)晶片加熱至850°C及加載RF偏壓。磁控濺射系統(tǒng)可按客戶需求增減其他窗口用于諸如殘余氣體分析（RGA）、反射高能電子衍射（RHEED)或橢偏儀（ellipsometry）。

納米顆粒和薄膜的模塊化PVD系統(tǒng)是一種多功能的 PVD 系統(tǒng)，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學(xué)術(shù)研究。NL-FLEX 能夠容納任何類型的基材，包括卷對(duì)卷、非平面和粉末涂料。服務(wù)于廣泛的應(yīng)用，包括催化、光子學(xué)、儲(chǔ)能、傳感器和生命科學(xué)。這種模塊化 PVD 沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

納米顆粒和薄膜UHV沉積系統(tǒng)，服務(wù)于廣泛的應(yīng)用，包括催化、光子學(xué)、儲(chǔ)能、傳感器和生命科學(xué)。該UHV 沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制的解決方案。

臺(tái)式納米顆粒沉積系統(tǒng)（納米團(tuán)簇），專為共享研究或教學(xué)實(shí)驗(yàn)室而設(shè)計(jì)，學(xué)生和研究人員可以在各種納米技術(shù)項(xiàng)目中并行使用，而不必?fù)?dān)心交叉污染。應(yīng)用包括催化、光子學(xué)、儲(chǔ)能、傳感器和生命科學(xué)。

脈沖激光沉積系統(tǒng)，基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度，溫度差3%，加熱時(shí)基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境最大壓力是300mtorr。

脈沖激光分子束外延系統(tǒng)主要配置：主腔室，樣品傳輸腔，1100度加熱系統(tǒng)，樣品旋轉(zhuǎn)，PLD靶材操控器及光路，K-cell熱蒸發(fā)源，電子束蒸發(fā)源，射頻RF離子源。