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狹縫擠出型涂布機，適用于高精度大面積表面涂布，平板型或 卷對卷涂布。應用領域：大學科研，柔性基板，觸摸屏等。

派瑞林真空鍍膜機，用于隔熱的門加熱器：最高 200 °C。汽化溫度設置：最多 10 步（溫度和時間）。

等離子體增強化學氣相沉積，通常選用射頻淋浴源(RF)或帶有不規(guī)則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應源產(chǎn)生等粒子體。

等離子體增強原子層沉積系，原子層沉積是在一個加熱反應的襯底上連續(xù)引入至少兩種氣相前驅體源，化學吸附至表面飽和時自動終止，適當?shù)倪^程溫度阻礙了分子在表面的物理吸附。一個基本的原子層沉積循環(huán)包括四個步驟：脈沖A，清洗A，脈沖B和清洗B。沉積循環(huán)不斷重復直至獲得所需的薄膜厚度，是制作納米結構從而形成納米器件較佳的工具。

MOKE系統(tǒng)：超高真空系統(tǒng)用于對超薄磁膜和多層電子束蒸發(fā)的薄膜沉積進行現(xiàn)場實時磁光克爾效應研究。

多功能鍍膜系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優(yōu)質的服務。

MBE 系統(tǒng)根據(jù)蒸發(fā)源的類型和數(shù)量以及基板大小，可提供不同的標準襯底尺寸：直徑300mm、直徑450mm 和 直徑570mm（根據(jù)要求的其他尺寸）。

TPD系統(tǒng)用于測量超薄薄膜吸附/脫吸的獨立系統(tǒng)，能夠在較寬溫范圍內進行高精度溫度控制。