高精度激光直寫(xiě)光刻機(jī)是一個(gè)用于直接CAD到基板精確圖案化的系統(tǒng)。它既可以用作通用圖案化工具，也可以用作滿(mǎn)足特定研究或生產(chǎn)需求的專(zhuān)業(yè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)在潔凈室中組裝，由以下部分組成：

      • 寫(xiě)入單元

      • 控制單元

      • PhotonSter®軟件包

      • 環(huán)境控制單元（可選）

應(yīng)用包括微電子、微光學(xué)、微波電路、太赫茲技術(shù)、微機(jī)械、微流體、石墨烯技術(shù)等的直接襯底圖案化和掩模制造。

圖案化可以在任何抗蝕劑涂覆的基板上進(jìn)行，如半導(dǎo)體晶片或芯片、玻璃、藍(lán)寶石、聚合物等。

該系統(tǒng)通過(guò)了CE認(rèn)證。

高精度激光直寫(xiě)光刻機(jī)寫(xiě)入單元

   -固態(tài)GaN激光器，用于在任何標(biāo)準(zhǔn)寬帶抗蝕劑膜（AZ，S）和薄SU8（<5μm）上進(jìn)行通用光刻，規(guī)格如下：

         激光器類(lèi)型：半導(dǎo)體（GaN）

         波長(zhǎng)：405nm

         工作模式：連續(xù)（CW）和脈沖。

         輸出功率（操作員可調(diào)節(jié)），按訂單定義：

                 • 50-100 mW，用于標(biāo)準(zhǔn)0.2-10μm厚的抗蝕劑

                 • 50-250 mW，用于厚抗蝕劑

                • 50-400mW。

         保證使用壽命：20000小時(shí)。

  -可選375 nm GaN激光器，專(zhuān)用于SU8或其他厚度大于5μm的紫外線(xiàn)敏感抗蝕劑，規(guī)格如下：

         激光器類(lèi)型：半導(dǎo)體（GaN）

         波長(zhǎng)：375 nm

         工作模式：連續(xù)（CW）和脈沖。

         輸出功率：60 mW。

         保證使用壽命：20000小時(shí)

  -點(diǎn)擊鼠標(biāo)切換波長(zhǎng)。

  -書(shū)寫(xiě)區(qū)域（mm）：160x160

  -基板尺寸（mm）：從5x5到200 mm x 200 mm。

  -基板厚度：0至10毫米。

  -超精密XY載物臺(tái)，具有線(xiàn)性電機(jī)和納米定位功能，靜態(tài)分辨率為10nm。

  -具有+/-0.4μm重疊對(duì)準(zhǔn)精度的多層圖案化（適用于穩(wěn)定在+/-1°C內(nèi)的操作環(huán)境）和用于在現(xiàn)有標(biāo)記上對(duì)準(zhǔn)的工具。

  -可選擇自動(dòng)或手動(dòng)配準(zhǔn)多層疊加。

  -超精密Z工作臺(tái)，量程+/-2.4毫米，精度0.1微米。

  -光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦和表面跟蹤，允許自動(dòng)對(duì)焦和構(gòu)圖

         • 在不平整或輕微傾斜的基板上，帶自動(dòng)補(bǔ)償（最大傾斜3度）

         • 直到基板邊緣，即使是小樣本（5x5 mm）

         • 在略微凸起或凹陷的表面（最小曲率半徑75 mm）或具有波紋的表面上。

  -在光束掃描和臺(tái)掃描模式下，具有256級(jí)灰度級(jí)圖案化能力。

  -正圖案和負(fù)圖案。

  -X或Y或XY鏡像圖案化。

  -七種寫(xiě)入模式：光束光柵掃描、舞臺(tái)光柵掃描、矢量、輪廓、散射掃描、閃光、手動(dòng)。任何XY載物臺(tái)移動(dòng)都已編程，位置同步光束打開(kāi)/關(guān)閉。

          -光束掃描：這是標(biāo)準(zhǔn)的寫(xiě)入模式：將整個(gè)圖案轉(zhuǎn)換為位圖圖像并劃分為平行條。激光束在基板上掃描，同時(shí)沿著與掃描方向（X）正交的每個(gè)條帶（Y方向）移動(dòng)。位圖圖案是通過(guò)在每次掃描期間調(diào)制光束而獲得的。在完成一個(gè)條帶之后，各階段移動(dòng)到下一個(gè)條的頂部，并重復(fù)該過(guò)程。所有條帶彼此精確對(duì)齊，相鄰條帶之間沒(méi)有可見(jiàn)的縫合錯(cuò)誤。

            -階段掃描：光束保持靜止，通過(guò)沿圖案的整個(gè)寬度快速來(lái)回移動(dòng)X階段獲得光柵掃描路徑，而Y階段移動(dòng)緩慢。

            -矢量掃描：這非常適合繪制長(zhǎng)隔離線(xiàn)或特定應(yīng)用（光化學(xué)、修剪等）。光束保持靜止，xy階段用于繪制組成圖案的線(xiàn)。

            -輪廓掃描：梁保持靜止，xy臺(tái)移動(dòng)以繪制所有設(shè)計(jì)的直線(xiàn)和圓弧。

            -分散掃描：這是一種專(zhuān)有的寫(xiě)入模式，只有在系統(tǒng)安裝時(shí)才向最終用戶(hù)公開(kāi)。

           -Flash掃描：這是一種專(zhuān)有的寫(xiě)入模式，只有在系統(tǒng)安裝時(shí)才向最終用戶(hù)公開(kāi)。

           -手動(dòng)：此模式允許用戶(hù)沿所需圖案手動(dòng)驅(qū)動(dòng)激光束，直接在視頻窗口上執(zhí)行該過(guò)程。

  -光學(xué)分辨率（最小線(xiàn)寬），可通過(guò)更換最終聚焦透鏡進(jìn)行選擇：

         405nm激光：

            • 0.5μm，特征定位分辨率為0.1μm，在厚度大于0.4μm的抗蝕劑上

            • 1.6μm，特征定位分辨率為0.2μm

            • 4μm，特征定位分辨率為0.4μm

            • 8μm，特征定位分辨率為0.8μm

         可選375 nm激光器

            • 5μm，特征定位分辨率為0.5μm，焦深為40μm

   包括所有解決方案。通過(guò)更換最終聚焦透鏡來(lái)改變分辨率。所有聚焦鏡頭都安裝在滑塊中，手動(dòng)選擇只需兩秒鐘。

   -可選的自動(dòng)換鏡頭系統(tǒng)（ALC），只需點(diǎn)擊鼠標(biāo)即可更換鏡頭。ALC還允許根據(jù)用戶(hù)定義的批處理程序在前一層上進(jìn)行無(wú)人值守的鏡頭更換和自動(dòng)重新對(duì)準(zhǔn)。

   -光束掃描模式（光柵掃描）下表面圖案化速度的范圍@405nm：

         • 2-8 mm2/min@0.5μm分辨率，特征定位分辨率為0.1至0.4μm

         • 1.6μm分辨率時(shí)為8-30 mm2/min，特征定位分辨率為0.2至0.8μm

         • 30-120 mm2/min@4μm分辨率，特征定位分辨率為0.4至2μm

         • 分辨率為8μm時(shí)為120-450 mm2/min，功能定位分辨率為0.8至4μm

   -樣品臺(tái)掃描、矢量和輪廓模式下的線(xiàn)性寫(xiě)入速度：在所有分辨率下最高可達(dá)10 mm/s。

   -編寫(xiě)時(shí)間計(jì)算器。該軟件估計(jì)啟動(dòng)新模式之前所需的總時(shí)間。在進(jìn)行構(gòu)圖的同時(shí)，計(jì)算并顯示剩余時(shí)間。

   -曝光劑量校準(zhǔn)工具。

   -光束掃描和散射掃描模式下的邊緣粗糙度作為寫(xiě)入速度的函數(shù)：

         •0.05 to 0.2 μm @ 2-8 mm2/min @ 0.5 μm resolution

         • 0.1 to 0.4 μm @ 8-30 mm2/min @ 1.6 μm resolution

         • 0.1 to 1 μm @ 30-120 mm2/min @ 4 μm resolution

         • 0.4 to 2 μm @120- 450 mm2/min @ 8 μm resolution

   -作為分辨率函數(shù)的線(xiàn)寬均勻性

         • 100 nm @ 0.4 and 0.5 μm resolution

         • 200 nm @ 1.6 μm resolution

         • 400 nm @ 4 μm resolution

         • 800 nm @ 8 μm resolution

   -逐步（粗略）和連續(xù)（精細(xì)）調(diào)節(jié)的暴露控制，曝光量指示（mJ/cm2）。

   -Z方向焦點(diǎn)偏移控制，最高可達(dá)±100μm。

   -通過(guò)B&W數(shù)字?jǐn)z像機(jī)對(duì)基板進(jìn)行視覺(jué)監(jiān)控，包括紅光基板照明、圖像平均和幀抓取。該系統(tǒng)也是一種分辨率為0.1μm的精密計(jì)量工具。透鏡更換機(jī)制還允許像傳統(tǒng)顯微鏡一樣快速選擇視場(chǎng)（800，400，200，100μm）。包括計(jì)量工具。

   -可選的附加寬視場(chǎng)顯微鏡（2.5 mm），用于在系統(tǒng)用作顯微鏡時(shí)快速定位圖案或搜索對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。

   -在圖案化的同時(shí)，通過(guò)用于激光聚焦的相同透鏡觀看基板。

   -用于協(xié)助操作員進(jìn)行精確多層對(duì)準(zhǔn)和基板定位的視頻工具。

   -可定制的基板真空吸盤(pán)。卡盤(pán)可以容納厚度在0到10mm范圍內(nèi)的晶片、芯片和掩模?？梢允褂萌魏纬叽绾托螤畹幕澹瑥?x5 mm開(kāi)始?？ūP(pán)還包含可重新定位的止動(dòng)塊，用于精確定位標(biāo)準(zhǔn)尺寸的基板?？梢愿鶕?jù)訂單定義自定義站點(diǎn)。

   -可選的額外多孔陶瓷真空吸盤(pán)，用于薄柔性基板或在吸盤(pán)上裝載更多小芯片。

   -無(wú)油真空泵用于卡盤(pán)，通過(guò)軟件進(jìn)行遠(yuǎn)程控制。如果安裝現(xiàn)場(chǎng)有真空管路，可以訂購(gòu)帶自動(dòng)排氣和遠(yuǎn)程控制的真空開(kāi)關(guān)來(lái)代替真空泵。

   -可以手動(dòng)控制系統(tǒng)，用于表面檢查和測(cè)量。

   -將書(shū)寫(xiě)頭放置在減振不銹鋼框架上，以便放置在地板上。
         • 大約重量：120公斤。

         • 不需要壓縮空氣，不需要冷卻空氣管道，不需要水。

         • 寫(xiě)入單元內(nèi)部的最大工作電壓為12V。

控制單元
所有電子設(shè)備都包含在19英寸標(biāo)準(zhǔn)機(jī)架單元中，放置在寫(xiě)頭下方，機(jī)架單元位于輪子上?？刂茊卧恍枰~外的占地空間。

19“x 4U單元包括：

   • 用戶(hù)界面計(jì)算機(jī)（工業(yè)級(jí)計(jì)算機(jī)，i7-8代CPU，16GB內(nèi)存），運(yùn)行在Windows10-pro下，64位。

   • .寫(xiě)入單元的電子驅(qū)動(dòng)器。

   • 可選不間斷電源（UPS），備份時(shí)間為30分鐘。

計(jì)算機(jī)和電源符合國(guó)際安全標(biāo)準(zhǔn)。除了計(jì)算機(jī)電源（115-230V）外，整個(gè)LaserWriter均未使用高電壓。包括一個(gè)用于緊急斷電的按鈕，以及基板裝載門(mén)中用于自動(dòng)關(guān)閉激光的聯(lián)鎖裝置。

控制單元管理從繪圖到曝光的自動(dòng)構(gòu)圖過(guò)程，以及手動(dòng)操作（當(dāng)將系統(tǒng)用作精密視頻計(jì)量工具時(shí)）。它允許操作員定義和控制所有的圖案化參數(shù)。

PhotonSter®軟件包

這是MICROTECH專(zhuān)有軟件包的第12版，用于驅(qū)動(dòng)LaserWriter，在Windows10-pro-64操作系統(tǒng)下運(yùn)行。它包括：

• CleWin-5布局編輯器，用于圖案設(shè)計(jì)、編輯和數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換，包括用于布局的圖形瀏覽器，具有GDSII、DXF、CIF等格式轉(zhuǎn)換器，具有無(wú)限許可證。

該編輯器也可以安裝在辦公室計(jì)算機(jī)中進(jìn)行數(shù)據(jù)準(zhǔn)備，并具有無(wú)限的教育/研究使用許可證。

   • 數(shù)據(jù)庫(kù)管理器，用于處理和檢索所有數(shù)據(jù)文件。

   • 灰度級(jí)數(shù)據(jù)處理套件（帶BMP和原始數(shù)據(jù)處理器）。

   • 寫(xiě)入單元的自動(dòng)控制器，具有寫(xiě)入模式、速度、激光功率、光束大小等全軟件控制。

   • 寫(xiě)入單元的手動(dòng)控制器，用于將系統(tǒng)用作檢測(cè)和高精度計(jì)量站，包括計(jì)量工具。

   • 暴露配方的管理。

   • 多層對(duì)齊工具。

還包括一些其他專(zhuān)有軟件工具，專(zhuān)門(mén)用于研究應(yīng)用，在培訓(xùn)課程期間向系統(tǒng)用戶(hù)披露。

包含配方數(shù)據(jù)庫(kù)和相關(guān)管理軟件，用于簡(jiǎn)單設(shè)置所有寫(xiě)入?yún)?shù)，具有無(wú)限數(shù)量的不同基板和無(wú)限數(shù)量的每個(gè)基板的曝光配方。這個(gè)數(shù)據(jù)庫(kù)的創(chuàng)建和使用非常簡(jiǎn)單明了。

還包括一個(gè)用戶(hù)管理軟件，用于多用戶(hù)環(huán)境，具有密碼管理和相關(guān)實(shí)用程序。

一個(gè)額外的軟件包可以安裝在辦公工作站上，甚至可以在潔凈室外進(jìn)行數(shù)據(jù)準(zhǔn)備。

PhotonSter®是一個(gè)用戶(hù)友好的軟件包，允許任何操作員在幾個(gè)小時(shí)內(nèi)控制系統(tǒng)，即使不查閱操作員手冊(cè)。其直觀的界面和豐富的幫助信息是使MICROTECH LaserWriter成為世界上流行的激光圖案生成器的要點(diǎn)之一。

可選環(huán)境控制單元（ECU）

LaserWriter通常配有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)外殼，用于保護(hù)寫(xiě)頭免受污染和潔凈室內(nèi)氣流引起的振動(dòng)。如果潔凈室沒(méi)有良好的溫度或微污染控制，可以訂購(gòu)一個(gè)緊湊型環(huán)境控制單元（ECU）來(lái)代替標(biāo)準(zhǔn)外殼，提供：

   -將寫(xiě)頭的體積壓靠在房間上，以防止在圖案化過(guò)程中來(lái)自房間的微接觸。

   -創(chuàng)造一個(gè)溫和的內(nèi)部氣流，能夠使寫(xiě)頭的所有部分保持恒定的溫度。

   -從寫(xiě)入頭中提取內(nèi)部產(chǎn)生的多余熱量。

空氣流動(dòng)和加壓都是通過(guò)高效空氣過(guò)濾器的微過(guò)濾空氣。

電子控制器用于調(diào)節(jié)室內(nèi)的空氣流量和溫度。溫度穩(wěn)定性?xún)?yōu)于1°C，外部波動(dòng)高達(dá)6°C。

技術(shù)細(xì)節(jié)

   1） LaserWriter操作基于兩種光柵掃描模式、兩種矢量/輪廓模式和兩種額外的特殊模式（閃光、散射）以及手動(dòng)操作。

在光束掃描模式中，圖案被轉(zhuǎn)換為位圖圖案并被劃分為平行條帶。激光束在基板上沿X方向掃描，同時(shí)沿每個(gè)條帶（Y方向）移動(dòng)。
位圖圖案是通過(guò)在每次掃描期間調(diào)制光束而獲得的。

每條帶的寬度取決于所選的分辨率，范圍從100μm到800μm。在完成一個(gè)條帶后，各階段移動(dòng)到下一個(gè)條的頂部，并重復(fù)該過(guò)程。所有條帶彼此精確對(duì)齊，相鄰條帶之間沒(méi)有間隙或重疊。零針技術(shù)被用于此目的。

根據(jù)操作員選擇的光學(xué)分辨率，電子像素大小（網(wǎng)格大小，即圖案定位分辨率）為0.1/0.2/0.4/0.8μm。

在樣品臺(tái)掃描模式中，通過(guò)沿圖案的整個(gè)寬度前后快速移動(dòng)x臺(tái)，在基板表面上掃描光束，而Y臺(tái)緩慢移動(dòng)。

矢量和輪廓模式非常適合長(zhǎng)隔離線(xiàn)的構(gòu)圖或特定應(yīng)用（光化學(xué)、修剪等）。任何XY載物臺(tái)移動(dòng)都可以通過(guò)位置同步光束打開(kāi)/關(guān)閉進(jìn)行編程。

   2） 基板尺寸：標(biāo)準(zhǔn)真空吸盤(pán)可以分配任何基板尺寸，從5毫米x 5毫米到200毫米x 200毫米。也可以使用圓形或不規(guī)則形狀的基板。通過(guò)放置在卡盤(pán)表面的可調(diào)節(jié)機(jī)械止動(dòng)器，可以快速定位標(biāo)準(zhǔn)尺寸的基板。可以為任何非標(biāo)準(zhǔn)基板添加額外的擋塊。有了額外的可選陶瓷卡盤(pán)，可以容納薄的柔性基板，以及幾個(gè)小的隔離芯片。

   3） 基板厚度：可使用0至10mm厚的基板。

   4） 聚焦：LaserWriter使用專(zhuān)有的聚焦系統(tǒng)，具有4毫米的范圍和可調(diào)節(jié)的偏移。它可以自動(dòng)跟蹤基板表面，即使在非平面、凹面或凸面（最小曲率半徑75 mm）或有波紋的表面上也可以進(jìn)行構(gòu)圖。聚焦系統(tǒng)是光學(xué)的。與其他聚焦技術(shù)相比，這有兩個(gè)主要優(yōu)勢(shì)：

         • 在表面上不施加壓力，即使在薄而精細(xì)的膜上也可以直接構(gòu)圖；

         • 圖案可以到達(dá)樣本的邊緣（沒(méi)有死區(qū)），也就是說(shuō)，圖案可以具有與樣本相同的大小。這對(duì)于在小基板上直接圖案化是有用的。

   5） 線(xiàn)寬：通過(guò)更換最終聚焦光學(xué)器件來(lái)選擇最小圖案線(xiàn)寬（分辨率）。這只需要幾秒鐘，因?yàn)樗械溺R頭都位于一個(gè)滑動(dòng)平臺(tái)上。當(dāng)系統(tǒng)用作測(cè)量顯微鏡時(shí)，這種簡(jiǎn)單快速的透鏡更換機(jī)構(gòu)也可用于改變放大倍數(shù)。

   6） 標(biāo)記對(duì)齊：對(duì)齊標(biāo)記的位置可以存儲(chǔ)，稍后用于圖層對(duì)齊。這允許在同一基板上進(jìn)行更多的工藝并適當(dāng)?shù)刂丿B。

   7） 掩模制造的計(jì)量補(bǔ)償：可以修改LaserWriter中使用的計(jì)量，以匹配其他圖案化工具（如電子束）的計(jì)量。這在生成遮罩集時(shí)非常有用，其中一些遮罩是用工具制作的，而其他遮罩是用另一個(gè)工具制作的。

   8） 多層和混合匹配光刻：在多層直接寫(xiě)入圖案化中，系統(tǒng)使用對(duì)齊點(diǎn)來(lái)匹配前一層，即使這是用另一種工具制作的：新層會(huì)自動(dòng)移動(dòng)、旋轉(zhuǎn)和縮放以匹配前一個(gè)層。

   9） 傾斜補(bǔ)償：可以在稍微傾斜的基板上進(jìn)行寫(xiě)入（最大2度）。如果使用具有非平行表面的小樣品，或者當(dāng)它們粘合在較大的載體板上并且膠水不均勻時(shí)（這是圖案化非常小的樣品時(shí)的典型情況），該功能非常有用。軟件評(píng)估傾斜量，并在寫(xiě)入過(guò)程中實(shí)時(shí)進(jìn)行補(bǔ)償。

   10） 灰度級(jí)圖案化：該功能允許衍射光學(xué)器件和MEM以及任何其他由表面浮雕制成的結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化或掩模制造。從設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)到圖案化的過(guò)程簡(jiǎn)單明了。

   11） SU8上的圖案化：405nm激光源允許在涂有薄SU8抗蝕劑（<5μm）的基板上曝光。額外的375nm激光源和具有長(zhǎng)焦深的相關(guān)聚焦光學(xué)器件是厚SU8專(zhuān)用的。

   12） 視頻顯微鏡：LaserWriter也是一種測(cè)量視頻顯微鏡。用于選擇圖案分辨率的透鏡組也用于視頻顯微鏡和多層對(duì)準(zhǔn)，具有四個(gè)可選視場(chǎng)：100、200、400、800μm。為了在大襯底上快速找到結(jié)構(gòu)，還可以選擇額外的寬場(chǎng)透鏡。

   13） 自動(dòng)檢測(cè)樣本邊緣。包括一個(gè)用于在小樣本上自動(dòng)對(duì)中圖案的工具。首先自動(dòng)檢測(cè)樣本邊緣，然后將圖案位置定位在中心。

LaserWriter一些相關(guān)功能的簡(jiǎn)要概述

   -針對(duì)研發(fā)和小型生產(chǎn)進(jìn)行優(yōu)化。

   -LaserWriter中使用的405和375nm固態(tài)激光器是直接調(diào)制的（沒(méi)有聲光調(diào)制器），并且實(shí)際上具有無(wú)限的壽命。激光光源的保修期為20000小時(shí)。然而，到目前為止，在過(guò)去15年中，世界各地安裝的所有LW405系統(tǒng)中甚至沒(méi)有更換過(guò)激光器。

   -405nm的激光波長(zhǎng)與大多數(shù)標(biāo)準(zhǔn)光刻膠和薄SU8的靈敏度光譜兼容。375nm的源對(duì)于厚SU8抗蝕劑是特定的。

   -405nm的120mW激光源提供了足夠的功率來(lái)圖案化甚至10μm厚的抗蝕劑膜。這允許將該系統(tǒng)用于高分辨率作業(yè)（微電子、微光學(xué)，具有薄抗蝕劑）和低分辨率圖案（微流體、微波電路、PCB、太陽(yáng)能電池等，具有厚抗蝕劑。為了在較厚的抗蝕劑上快速圖案化，建議使用可選的240 mW或360 mW激光器。

   -非氣動(dòng)聚焦系統(tǒng)不會(huì)對(duì)基板施加任何壓力，激光束可以聚焦在精細(xì)的基板（MEMs膜和X射線(xiàn)掩模）上，也可以聚焦在小而不規(guī)則的基板上（用于無(wú)掩模直接構(gòu)圖）。此外，襯底可以被圖案化到邊緣，沒(méi)有“死區(qū)"。

   -PhotonSter®軟件包經(jīng)過(guò)優(yōu)化，可以簡(jiǎn)單直觀地使用LaserWriter執(zhí)行大量操作。它既允許對(duì)所有系統(tǒng)功能進(jìn)行深度全手動(dòng)控制，也允許簡(jiǎn)單直接地訪(fǎng)問(wèn)自動(dòng)圖案化功能。所有配置參數(shù)都受密碼保護(hù)，因?yàn)槠胀ㄓ脩?hù)不需要訪(fǎng)問(wèn)它們。操作員決不會(huì)因?yàn)殄e(cuò)誤
的設(shè)置或命令而意外損壞硬件。任何錯(cuò)誤都由一條消息指示，該消息告訴用戶(hù)如何更正錯(cuò)誤。

   -系統(tǒng)制造商隨時(shí)準(zhǔn)備收集來(lái)自最終用戶(hù)的任何反饋和建議。任何與系統(tǒng)軟件相關(guān)并能夠提高LaserWriter靈活性的新想法都將免費(fèi)添加，并提供給所有其他系統(tǒng)用戶(hù)。   

-LaserWriter的所有權(quán)成本實(shí)際上為零。迄今為止，世界上安裝的所有系統(tǒng)都在運(yùn)行，并且仍然運(yùn)行，無(wú)需維護(hù)成本和耗材。與系統(tǒng)運(yùn)行直接相關(guān)的唯1成本是電力，所需電力不到500瓦。

可選配件

   1.額外的375nm激光（60mW），專(zhuān)用于SU8或其他厚的紫外線(xiàn)敏感抗蝕劑

   2.準(zhǔn)備將來(lái)在現(xiàn)場(chǎng)安裝額外的375nm源。

   3.  405nm激光器的增強(qiáng)功率，240mW或360mW，適用于在厚抗蝕劑上工作。

   4. 自動(dòng)換鏡系統(tǒng)。

   5. 寬視野顯微鏡。

   6. 如果工具不安裝在一樓，或者其他有噪音和振動(dòng)的工具安裝在同一樓層或較低樓層，建議為寫(xiě)頭提供額外的阻尼平臺(tái)。

   7. 操作臺(tái)（不銹鋼），用于顯示器、鍵盤(pán)和鼠標(biāo)（80厘米x 50厘米或85厘米x 85厘米）。

   8. 不間斷電源，工業(yè)機(jī)架單元，備份時(shí)間為30分鐘（已包含在機(jī)架柜中的電子設(shè)備系統(tǒng)中）。

   9. 帶自動(dòng)排氣的真空開(kāi)關(guān)，代替真空泵。包括一個(gè)用于真空吸盤(pán)的緊湊型無(wú)油泵。如果實(shí)驗(yàn)室中已經(jīng)有真空管線(xiàn)，可以訂購(gòu)帶自動(dòng)排氣的電控真空開(kāi)關(guān)來(lái)代替真空泵。

   10. 多孔陶瓷卡盤(pán)（3"、4"或6"），用于薄柔性基板或多芯片加工。

   11. 環(huán)境控制單元（ECU）

安裝要求

   1） 該系統(tǒng)必須直接分配在潔凈室的混凝土地板上，也可能分配在建筑物的底層。它不能放在浮動(dòng)地板上，因?yàn)檫@通常太不穩(wěn)定和振動(dòng)敏感。如果潔凈室有浮動(dòng)地板，MICROTECH將提供在系統(tǒng)安裝前準(zhǔn)備地板的具體說(shuō)明。

   2） 建議采用穩(wěn)定良好的室溫（±1°C），以滿(mǎn)足多層圖案化所需的覆蓋精度。

   3） 如果低頻噪音和振動(dòng)低于潔凈室操作人員的驗(yàn)收閾值，則可以接受。具體而言，必須仔細(xì)評(píng)估和限制低頻振動(dòng)和振蕩（<100 Hz）。這種振動(dòng)通常由旋轉(zhuǎn)真空泵、壓縮機(jī)和低溫泵產(chǎn)生，并且通?？梢员幌到y(tǒng)用戶(hù)感知。作為指導(dǎo)原則，操作工具時(shí)可接受人員未檢測(cè)到的振動(dòng)和低頻振蕩。

   4） 地板上的系統(tǒng)占地面積（mm）：600 x 600。

   5） 服務(wù)通道：系統(tǒng)周?chē)鷳?yīng)留出約300毫米的空閑空間。應(yīng)在工具的左側(cè)或右側(cè)提供用于放置顯示器、顯示器和鼠標(biāo)的小桌子的空間?？刂茩C(jī)架位于寫(xiě)入單元下方?？刂破鞑恍枰~外的占地空間。

   6） 沒(méi)有空氣管道，沒(méi)有空氣或氣體連接。系統(tǒng)操作只需要兩個(gè)230 V插座（一個(gè)用于工具，一個(gè)用于泵或可選真空開(kāi)關(guān)），所需總功率不超過(guò)500 W。

   7） 所有互連的圖紙均包含在系統(tǒng)手冊(cè)中。

   8） 默認(rèn)情況下，該系統(tǒng)為基板卡盤(pán)配備了一個(gè)小型真空泵。如果實(shí)驗(yàn)室真空管線(xiàn)已經(jīng)可用，建議使用真空開(kāi)關(guān)代替泵（見(jiàn)選項(xiàng)列表）。