光刻機又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

MDA-400LJ/600LJ光刻機產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-400LJ/600LJ光刻機 光刻機

MDA-400LJ/600LJ光刻機

操作安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊，UV-LED壽命長

•手動操作

•掩模版尺寸達5英寸

•基板尺寸為4英寸圓形

•均勻性光束尺寸125mm圓

•UV光源UV LED

•光束波長365 nm

•光束均勻性<±3%

•365 nm強度 ~20 mW/?

•手動對準(zhǔn)

•對準(zhǔn)精度1 um

•操作模式軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接觸

•尺寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高）

MDA-600LJ

操作安裝方便，可處理各種尺寸的基板，采用UV-LED曝光模塊，UV-LED壽命長

•手動操作

•掩模版尺寸高達7英寸

•基板尺寸為6英寸圓形

•均勻光束尺寸170 mm圓

•UV光源：UV LED

•光束波長365 nm

•光束均勻性<±5%

•365 nm強度 ~20 mW/?

•手動對準(zhǔn)

•對準(zhǔn)精度1 um

•操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率 1 um@1 um PR厚度，真空接觸

•重量（kg）150

•尺寸（mm）800（寬）*800（深）*800（高）