


簡要描述:MDA-12FA全自動光刻機,操作簡單,PLC操作,PC控制,圖像采集和數(shù)據(jù)記錄,100多個程序配方,顯微鏡位置控制系統(tǒng),自動對齊標(biāo)記搜索功能。
產(chǎn)品型號:
廠商性質(zhì):代理商
更新時間:2025-12-04
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| 品牌 | 其他品牌 |
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MDA-12FA全自動光刻機:
MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實驗室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對準(zhǔn)曝光機和甩膠機,是韓國第1家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準(zhǔn)曝光機的企業(yè),始終致力于不斷完善、增強技術(shù)型企業(yè)的核心競爭力。
MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設(shè)計團(tuán)隊,以客戶需要為己任,生產(chǎn)、供應(yīng)滿足國內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長的應(yīng)用需求,并且提供半導(dǎo)體工藝相關(guān)的設(shè)備需要。
MDA-12FA型曝光機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品,代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準(zhǔn)曝光平臺具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作,非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用,同時MDA-12SA型半動化光罩對準(zhǔn)曝光機具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。
MDA-12FA全自動光刻機
操作簡單,PLC操作,PC控制,圖像采集和數(shù)據(jù)記錄,100多個程序配方,顯微鏡位置控制系統(tǒng),自動對齊標(biāo)記搜索功能
類型:全自動
掩模版尺寸:最大14英寸
基板尺寸:8~12英寸
均勻梁尺寸:13.25*13.25英寸
紫外線光源:紫外線燈,2KW,5KW
光束波長:350~450nm
光束均勻度 <±5%
365 nm強度 2千瓦:~25毫瓦/?5千瓦:~45毫瓦/?
對齊方式:全自動
對準(zhǔn)精度:1 um
加工方式:軟、硬、真空接觸、接近
工藝分辨率:2 um@1 um PR厚度,真空接觸
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