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MDE-200SC全自動光刻機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

MDA-80MS光刻機產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比。

SPIN-3000A勻膠機適用于半導(dǎo)體、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學(xué)之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。

MDA-40FA/60F光刻機，操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標記搜索功能。

MINILAB勻膠顯影熱板系統(tǒng)，組成：旋涂機（Spin-1200T）、熱板、D.I水系統(tǒng)。尺寸：1300（寬）*750（深）*1800（高）。

THU SERIES納米壓印，科睿設(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代，我們愿意化為一座橋梁，見證中國科技水平的提升，與中國科技共同飛速成長。

SPIN-5000/70勻膠機，適用于半導(dǎo)體、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學(xué)之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。

MDA-400M-6光刻機，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。