


簡要描述:SPIN-1200T勻膠機,適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。
產(chǎn)品型號:
廠商性質(zhì):代理商
更新時間:2025-12-04
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SPIN-1200T勻膠機有很多種稱謂,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉(zhuǎn)涂膠機、旋轉(zhuǎn)涂膜機、旋轉(zhuǎn)涂層機、旋轉(zhuǎn)涂布機、旋轉(zhuǎn)薄膜機、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機,總的來說,他們原理都是一樣的,既在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關。
勻膠機適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。
由我司提供的勻膠機,在高校、研究所及半導體產(chǎn)業(yè)享有很高的聲譽,相信能滿足您多種不同應用要求。
產(chǎn)地:韓國MIDAS公司,
型號:SPIN-1200T
SPIN-1200T勻膠機
觸摸面板控制,各種涂層溶液的緊湊單元,可編程配方管理,操作簡單
•勻膠機
•基板尺寸:小于等于4英寸
•轉(zhuǎn)速:300~7000 rpm(空載時),誤差小于3%(海外10000 rpm)
•菜單程序:50步,50個配方
•卡盤材料:改性鋁、縮醛
•碗尺寸:8英寸
•碗材料:聚丙烯
•尺寸(mm)230(寬)*340(深)*260(高)
應用范圍:
可用于光刻膠(PR),聚酰亞胺(Polyimide),金屬有機物(Metallo-organics),攙雜劑(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多數(shù)的有機溶液、水溶液;全自動的勻膠及顯影工藝必需的全自動Chip生產(chǎn)設備。
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